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芬兰KxS Technologies Oy半导体浓度监测仪

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  • 价   格:5000

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大连力迪供应芬兰KxS Technologies Oy半导体浓度监测仪

大连力迪供应芬兰KxS Technologies Oy半导体浓度监测仪,德国总部直接采购,近30年进口工业品经验,原装产品,支持选型,为您提供一对一好的解决方案:货期稳定,快速报价,价格优,设有8大办事处提供相关售后服务。

公司简介:

大连力迪供应芬兰KxS Technologies Oy 半导体浓度监测仪,

KxS Technologies 致力于先进、最现代的液体浓缩技术,帮助半导体、生物加工、食品、糖、化学品以及纸浆和造纸行业的广泛客户生产更多高质量的消费产品。 

KxS 专注于在线浓度监测技术的开发,并不断通过 DCM 过程折射仪取得突破,该折射仪设计坚固、体积小,可确保任何液体过程的可靠性和准确性。

 

主要型号:

DCM-10

 

芬兰KxS Technologies Oy 半导体浓度监测仪产品介绍:

大连力迪供应芬兰KxS Technologies Oy 半导体浓度监测仪产品。

在整个晶圆厂分销链中,当需要平衡半导体化学浓度测量的成本、速度和准确性时,原位折射率已成为行业标准。KxS 半导体DCM-10 晶圆厂化学监测器经过设计,可以:

定义进料清洁化学品浓度和原始 CMP 浆料密度。

实现并确保在铜、钨和层间电介质平坦化应用中使用的胶体二氧化硅型 CMP 浆料中精确的 H2O2 浓度和 DI 水稀释度。

将浓度测量结果与缓冲氧化物蚀刻(BOE)等工艺中的晶圆蚀刻速率(ER)关联起来。

优化湿法带钢旋压工具中蚀刻后残留物消除剂(如 EKC265™)的使用寿命。

我们的半导体晶圆厂化学监测器适用于多种应用,包括:

SC-1 和 SC-2 的化学混合物校验和

使用 NH3 水混合物进行硬掩模蚀刻

使用 50% KOH 进行硅湿法蚀刻

使用 H2SO4:HNO3:H3PO4 混合物蚀刻钛

使用 HF:HNO3 混合溶液蚀刻背面聚合物

使用各种混合物进行 CMP 后清洁

我们的技术能够监测各种关键的半导体化学品,包括但不限于:

过氧化氢(H2O2)

氢氧化铵(NH3水)

稀氢氟酸(HF)

磷酸(H3PO4)

盐酸(HCl)

氢氧化钠(NaOH)

硫酸(H2SO4)

N-甲基吡咯烷酮(NMP)

四甲基氢氧化铵 (TMAH)

异丙醇 (IPA)

氢氧化钾(KOH)

硝酸(HNO3)

聚乙二醇 (PEG)

柠檬酸(C6H8O7)

乙酸(CH3COOH)

大连力迪供应芬兰KxS Technologies Oy 半导体浓度监测仪优势特点

Ø 所有测量功能都集成在传感器中——无需发射器

Ø 监测器适用于多种应用

Ø 测量输出选项包括模拟和数字通信协议

Ø 可以通过传感器的数字端口连接各种尺寸的外部显示器。使用带有网络浏览器的计算机、平板电脑或手机访问传感器的诊断和设置。

 

大连力迪供应芬兰KxS Technologies Oy 半导体浓度监测仪主要应用:

大连力迪供应芬兰KxS Technologies Oy 半导体浓度监测仪,利用 KxS Technologies 的先进解决方案和知识,在您的化学监测过程中体验精度和效率。。


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